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BS/JEBG/EBG 系列电子束蒸镀用电子枪
BS/JEBG/EBG 系列电子枪用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。产品特点:用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。电子束蒸镀法的特征用电子束直接
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BS/JST系列电子枪/电子束蒸镀的高压电源
BS/JST系列电子枪/电源和偏转型电子枪结合使用,用作电子束蒸镀的高压电源。产品特点:和偏转型电子枪结合使用,用作电子束蒸镀的高压电源。BS-720xxICE系列电源多功能、高性能、采用按钮操作
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GSL-ZDDZS-500电子束蒸镀
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日本电子BS/JEBG/EBG 系列电子束蒸镀用电子枪
BS/JEBG/EBG 系列电子枪用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。产品特点:用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。电子束蒸镀法的特征用电子束直接
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日本电子BS/JEBG/EBG 系列电子束蒸镀用电子枪 金属
产品特点:用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。电子束蒸镀法的特征用电子束直接照射镀膜材料进行加热,因此热效率高,能蒸发高熔点金属、氧化物、化合物、升华性物质等各种材料。镀膜
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日本电子BS/JEBG/EBG 系列电子束蒸镀用电子枪 化合物
日本电子制造的电子枪/电源的特征[ 氧化物 ]电子束垂直照射镀膜材料,束斑近似圆形,具有能量密度高的特征。此外,由于标准配备了快速扫描功能,非常适合蒸镀融点高、热传导性低的氧化物及升华性材料,能获得
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日本电子BS/JEBG/EBG 系列电子束蒸镀用电子枪 氧化物
电子束蒸镀法的特征用电子束直接照射镀膜材料进行加热,因此热效率高,能蒸发高熔点金属、氧化物、化合物、升华性物质等各种材料。镀膜材料在水冷铜坩埚内(*)被直接加热,因此不会象电阻加热式或感应加热式那样
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日本电子BS/JEBG/EBG 系列电子束蒸镀用电子枪 升华性物质
咨询。BS/JEBG/EBG 系列电子枪用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。日本电子制造的电子枪/电源的特征[ 氧化物 ]电子束垂直照射镀膜材料,束斑近似圆形,具有能量密度高
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KRI 离子源应用于电子束蒸镀设备
KRI 离子源应用于电子束蒸镀设备 E-beam Evaporation System特殊的系统设计电子束沉积是一种实用且高度可靠的系统, 上海伯东某客户电子束蒸镀系统可针对量产使用单一大坩埚也可以
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蒸镀仪
仪器简介:The E6500 Mini High Vacuum Evaporator is designed to meet TEM, SEM and general carbon
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