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GSL-ZDDZS-500电子束蒸镀
的优点,还具有蒸镀速率快,电子束定位准确能量密度高,可以避免坩埚材料的污染等特点。 产品简介:用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料
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PLASSYS 超高真空多腔体电子束蒸镀系统
分析仪反应蒸镀:氧气气路+MFC 氧化腔体:静态/动态氧化 臭氧发生器/原子氧发生源/辉光放电; 卤素灯加热至zei高200℃ 残余气体分析仪分子泵 + 干泵;真空度
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日本电子BS/JEBG/EBG 系列电子束蒸镀用电子枪/电源
请另行咨询。 用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。BS/JEBG/EBG 系列电子枪用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。产品特点:用于光学薄膜及
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NTE-3000 热蒸镀系统
NTE-3000蒸发系统是一个台式系统,跟我们的溅射系统共享一个共同的平台;比如:橱柜,腔体,真空系统,计算机控制架构等方面都是一样的。唯一的区别是一个使用磁控管,另一个使用加热坩埚. 因此,在
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日本电子BS/JST系列电子枪/电子束蒸镀的高压电源
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NEE-4000 (A) 全自动电子束蒸发系统
电抛光14“立方体或21“x21“x22“不锈钢优化蒸镀腔体680 l/sec 涡轮分子泵,串接机械泵或干泵4x 15CC pocket电子枪电子束源和基片遮板6KW开关电源,杰出的消弧性能
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GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸镀仪
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GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸镀仪
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CHROMA 光学元件
Chroma 应用广泛的物理气相沉积工艺阻源性沉积法电子束蒸镀法离子源辅助电子束蒸镀法改进型磁控溅镀沉积法专业的设计水准zei先进的分析软件复杂的光学分析系统
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BS-80011BPG产生高密度等离子体的内置型等离子体枪
的等离子体源。利用和真空蒸镀结合的等离子体辅助沉积技术(离子镀),能提高光学薄膜、保护膜、功能膜等的薄膜特性。另外,还可以用作等离子处理如对清洗基板和表面改性也很有
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