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电弧等离子体沉积系统
日本ADVANCE RIKO公司致力于电弧等离子体沉积系统(APD)利用脉冲电弧放电将电导材料离子化,产生高能离子并沉积在基底上,制备纳米级薄膜镀层或纳米颗粒。
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统
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电弧等离子体沉积系统
日本Advance Riko 公司致力于电弧等离子体沉积系统(APD)利用脉冲电弧放电将电导材料离子化,产生高能离子并沉积在基底上,制备纳米级薄膜镀层或纳米颗粒。电弧等离子体沉积系统利用通过控制脉冲
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积
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ADVANCE RIKO暂无电弧等离子体沉积系统 电弧等离子体沉积系统
ADVANCE RIKO电弧等离子体沉积系统暂无用于测定铂-镍合金纳米颗粒堆叠薄膜,符合行业标准N. Todoroki, et al., Pt−Ni Nanoparticle-Stacking
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其它暂无电弧等离子体沉积系统 适用于双电弧等离子体源共沉积
ADVANCE RIKO电弧等离子体沉积系统暂无可用于测定铂-镍合金纳米颗粒堆叠薄膜,适用于双电弧等离子体源共沉积项目。并且参考多项行业标准N. Todoroki, et al., Pt−Ni
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VSParticle 纳米印刷沉积系统
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 适用于微机电系统
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 多种工艺气体
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离子束刻蚀/沉积系统
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