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离子束刻蚀/沉积系统
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离子束辅助沉积系统
本公司为您提供经济型超高真空离子束辅助沉积系统。 技术规格: 1)基础真空:5x10-10 torr 2)腔体尺寸优化易于装配 3)真空泵效率高 4)根据客户要求做定制
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积
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离子束溅射沉积系统
结晶GaN 主要特点: 高效高产量,低能量等离子体源 6 x 4" 偏置靶材旋转架 独立偏置靶材,专业用于控制沉积合金复合材料 100mm 直径样品表面处理
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日本电子JIB-4000 聚焦离子束加工观察系统 沉积碳
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JIB-4000 聚焦离子束加工观察系统
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Fisher Scientific™ 辅助数据记录器
产品特色● 完整的DAS - 4TM 系统,zei高可采集和保存8000 字节(1000 余条读数)的结果。您可以在 1 秒到99 小时的范围内设置读数时间间隔。保存的读数可下载到任意计算机上查看
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JIB-4000PLUS 聚焦离子束加工观察系统
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VSParticle 纳米印刷沉积系统
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MALDI mini-1基质辅助激光解吸
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