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离子束刻蚀/沉积系统
电子回旋共振技术(ECR)的小型离子束蚀刻系统,特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄,清洗、沉积等。 EIS-200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术(ECR
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离子辅助脉冲激光沉积系统 Ion-Assisted PLD System
离子辅助沉积PLD已经成为在无规取向的基片或非晶衬底上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。该系统将 PLD 在沉积复杂材料方面的优势与 IBAD 能力结合在一起。 特点独立的交钥匙离子束辅助
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聚焦离子束系统
操作系统上的SmartSEM操作界面。由鼠标,键盘,操作杆控制或控制板(可选) 这是一台zei新设计的聚焦离子束系统,具备高分辨率成像功能。它由电子束系统(SEM)和离子束系统(FIB)组成,可以
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楚天配液辅助系统
包括在线清洗站,温控单元,废液灭活系统等。性能特点在线清洗系统CIP根据使用情况提供不同配置的在线清洗站,运行稳定、安全、精确;根据清洗对象数量、特性、生产排班,我们可以提供无罐、单罐、双罐、多罐
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土壤墒情监测系统价格
土壤墒情监测系统价格1⊙技术参数★ 主控制器技术参数·数据存储空间:≥100000条·记录间隔:1分-24小时可调·数据传输:无线传输·工作环境:-30℃~80℃·供电方式:220v市电
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SUPERALD Exploiter原子层沉积大尺寸沉积系统
设备规格工艺温度:温度范围:RT~500°C 精度:土1°C(可定制)前驱体路数:支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~150℃反应物路数:支持2
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光学元件原子级涂覆系统
光学涂层溅射IBAD离子束辅助沉积离子束刻蚀清洗离子束辅助反应刻蚀红外涂层表面处理 光学涂覆系统提供最先进的技术,系统的设计也可以支持其中任一个腔体的单独使用,同时具备各自的自动上/下载片
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原子层沉积系统(ALD)
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Pioneer 180 PLD System脉冲激光沉积系统
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IonEtch Sputter Gun溅射离子枪,等离子体发生源
, MBE and HV 溅射过程;离子辅助沉积;离子束溅射镀膜;反应离子刻蚀 溅射离子枪主要用途:溅射清洗/表面科学中样品表面处理, MBE and HV 溅射过程离子辅助沉积离子束溅射镀膜
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