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KRI 考夫曼离子源 KDC 100
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KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 成功用于多靶磁控溅射镀膜机
某 OEM 厂商为了提高镀膜机镀膜的品质, 其为客户搭建的多靶磁控溅射镀膜机的溅射源采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380, 清洗源采用 KRI 霍尔离子源 Gridless eH
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美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 160
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美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 40
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美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 10
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美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 75
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上海伯东KRI 考夫曼离子源 RPICP 140
KRI Ion Source RFICP 140, Gridded RF Ion SourceKRI Ion Source RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源,非常适合于离子束溅射沉积、离子
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上海伯东KRI 考夫曼离子源 RPICP 200
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伯东供应KRI 考夫曼离子源 KDC 75
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