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上海伯东美国考夫曼公司KRI 离子源总代理
镀膜机,龙翩真空 Lung Pien 镀膜机,4Wave 离子刻蚀机等. 美国考夫曼公司 KRI 离子源主要优点:考夫曼离子源: 高离子能量低离子浓度,离子抨击能量强,蚀刻效率快,可应用多种基材,单
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伯东公司考夫曼离子源
KRI 考夫曼离子源 EH1010F , EH1020F …系列广泛用于镀膜之前处理 (ISSP) 及离子辅助镀膜 (IBAD)且有助于提高光学成膜之沉淀速率, 附着度, 可靠度, 增加
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伯东Pfeiffer氦质谱检漏仪ASM 340
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JPS-9030 光电子能谱仪
分析器能量扫描方式固定分析器能量及固定减速比检测器多通道板离子枪考夫曼型离子枪极限压力zei大 7×10-8 Pa烘烤系统内置加热器, 自动控制 世界zei大的可调分析范围 世界zei大的可调
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伯东NS离子刻蚀机
离子蚀刻机 20-M/NS-12 主要技术参数:基片尺寸直径 4英寸 X 12片直径 18英寸 X 3片样品台直接冷却离子源20cm 考夫曼离子源电源WELL-5100(可更换为国内电源
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伯东日本离子蚀刻机
离子蚀刻机10-M/NS-5 主要技术参数:基片尺寸直径 6英寸 X 1片样品台直接冷却,单独冷却离子源10cm 考夫曼离子源电源WELL-2000(可更换为国内电源上海伯东日本NS进口离子蚀刻机
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伯东离子蚀刻机NS
离子蚀刻机 20-M/NS-8 主要技术参数:基片尺寸直径 3英寸 X 8片直径 4英寸 X 6片样品台直接冷却离子源20cm 考夫曼离子源电源WELL-5000(可更换为国内电源上海伯东日本 NS
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伯东离子蚀刻机 NS-5
基片尺寸直径 6英寸 X 1片样品台直接冷却,单独冷却离子源10cm 考夫曼离子源电源可更换为国内电源干式制程的微细加工装置,使得在薄膜磁头,半导体元件, MR sensor 等领域的开发研究及量产
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伯东离子蚀刻机 NS-8
基片尺寸直径 3英寸 X 8片 直径 4英寸 X 6片基台直接冷却样品台20cm 考夫曼离子源电源可更换为国内电源干式制程的微细加工装置,使得在薄膜磁头,半导体元件, MR sensor 等
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高低温试验箱 ATS-730|伯东 inTEST
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