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国产聚焦离子束电子束双束显微镜 DB500
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德国徕卡 共聚焦显微镜
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赛默飞ELEMENT GD Plus双聚焦辉光放电质谱仪
Thermo Scientific ELEMENT GD结合了辉光放电离子源和双聚焦高分辨率质量分析器,可以定性定量分析固体样品中包括C、N、O在内的几乎所有元素,是直接、快速分析高纯
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赛默飞ELEMENT GD Plus双聚焦辉光放电质谱仪
Thermo Scientific ELEMENT GD结合了辉光放电离子源和双聚焦高分辨率质量分析器,可以定性定量分析固体样品中包括C、N、O在内的几乎所有元素,是直接、快速分析高纯样品杂志含量和
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德国徕卡共聚焦显微镜STELLARIS
Confocal re-imagined 重新定义共聚焦 在显微成像领域,我们的使命是助您持续推动科学进步。现推出重新定义的共聚焦显微系统,助您臻于真像。
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德国徕卡 共聚焦显微镜 DIVE
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JBX-3200MV电子束光刻系统
JBX-3200MV 电子束光刻系统JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速
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JBX-3050MV 电子束光刻系统
JBX-3050MV 电子束光刻系统JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速
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JBX-9500FS电子束光刻系统
JBX-9500FS 电子束光刻系统JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印
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JBX-6300FS 电子束光刻系统
JBX-6300FS 电子束光刻系统JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为(计算值)2.1nm的电子束,简便地描画出线宽在8nm以下(实际可达5nm)的图形
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