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日立高新NB5000聚焦离子束&电子束装置
entry stage is ordered 超高性能聚焦离子束和超高分辨率场发射电子显微镜融合使得样品制备、高分辨观察、分析以及精准纳米尺度加工成为可能。 Hitachi's
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聚焦离子束电子束双束显微镜 DB500
产品参数电子束系统电子枪类型高亮度肖特基场发射电子枪分辨率1.2 nm@15 kV加速电压20 V ~ 30 kV离子束系统离子源类型液态镓离子源分辨率3 nm@30 kV加速电压500 V
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Helios G4 UX 用于材料科学聚焦离子束电子束双束系统
may be available only on the MultiChem or on the Single GIS 聚焦离子束电子束双束系统-用于金属、半导体、电介质、多层膜结构等固体样品上制备
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450型电子束蒸发镀膜系统
:质量流量控制器1路 石英晶振膜厚控制仪:监测膜厚显示范围:0-99μ9999? 450型电子束蒸发镀膜系统用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等,广泛应用于大专院校、科研机构的科研及
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GSL-ZDDZS-500电子束蒸镀
的优点,还具有蒸镀速率快,电子束定位准确能量密度高,可以避免坩埚材料的污染等特点。 产品简介:用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料
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高精度电子束曝光系统
ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统,其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125) ELS-F125是Elionix推出
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光纤聚焦镜
闻奕光电的光纤聚焦镜可以用于光纤输出汇聚也可以用于耦合聚焦用。 闻奕光电的光纤聚焦镜可以用于光纤输出汇聚也可以用于耦合聚焦用;光纤输出汇聚用途的话,接单模或者多模光纤皆可;如果
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脉冲电子束沉积系统 Pioneer 180 PED System
10-8 Torr涡轮分子泵转速由软件控制 PED系统能发射高能脉冲(100ns) 电子束( 约1000 A,15 keV) 在靶材上穿透将近1 um,使靶材快速蒸发形成等离子体
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NEE-4000 (M) 电子束蒸发系统
10KW开关电源涡轮分子泵,极限真空5x10-7Torr NANO-MASTER NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置,其中样品台位于主腔体内,二级腔体则用于安置电子束源。 顺序
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TESCAN 聚焦离子束扫描电镜 LYRA3(XM)
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