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超高真空PLD电子束沉积系统
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脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统(NEW)
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激光脉冲沉积系统(PLD)
deposition in oxygen atmosphere -铁磁 / 电介体 / 磁阻抗材料沉积技术参数: 腔形状 : 球面型 样品尺寸 : ~ 2inch, 单片 wafer 加热
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ISOLUTE® PLD+
瑞典Biotage公司zei新开发的 ISOLUTE® PLD+ 内有除磷脂填料,可以快速去除基质复杂样品中99%的蛋白和磷脂对于生化样品制备来说,使用ISOLUTE® PLD+较传统蛋白沉淀技术
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脉冲激光沉积(PLD)/大面积PLD/涂层带PLD系统
仪器简介:脉冲激光沉积(PLD)简介 美国PVD公司为客户提供优质的薄膜沉积设备,特别是大面积脉冲激光沉积(PLD)系统,还包括沉积元件如靶材操纵器和智能视窗等,另外可为客户订制激光分子
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脉冲激光沉积系统(PLD)
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脉冲激光沉积系统(PLD)
, 清华大学先进材料重点实验室,北京大学微电子系 使用此研究级高性能的PLD系统, 望我们高性能价格比的PLD为广大科研人员提供帮助!! 具体配置: 一, 超高真空腔体 二, 分子泵
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超高真空脉冲激光沉积系统
本公司提供超高真空的脉冲激光沉积(PLD)系统。 规格: 1)可选测量分析腔 2)样品台可以同时容纳5个样品 3)用于样品台的传输臂 4)高压RHEED组件包
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SealSAFE 样本真空系统
Milestone推出的SealSAFE,可对样本进行抽真空,也可灌注福尔马林后再真空。真空后的样本,可在4°温度下72h内可保持样本原始信息不改变。为实验室解决了样本的保存和转运问题,同时可追溯
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积
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