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PLASSYS 超高真空多腔体电子束蒸镀系统
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Pioneer 180 PLD System脉冲激光沉积系统
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脉冲激光沉积系统180 Laser MBE/PLD
聚合物薄膜的沉积;在同一室的附加沉积源(可选): 脉冲电子沉积(PED),射频/直流溅射和直流离子源;Load-lockable衬底阶段;与XPS分析系统集成,直接将晶片从PLD系统转移到分析系统
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脉冲激光沉积系统Pioneer 120 PLD System
薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。纳米级薄膜的沉积。外延氧化膜沉积的可编程氧兼容加热器。自动多目标旋转多层沉积。全干式真空泵组。通过系统软件进行闭环压力控制。 产品简介Pioneer120 PLD
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脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 MAPLE PLD
PLD系统。有机和聚合物薄膜的沉积。在同一室的附加沉积源(可选):脉冲电子沉积(PED)、射频/直流溅射和直流离子源。负载锁定基底阶段。与XPS分析系统集成,晶片就地从PLD系统转移到分析系统
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组合型脉冲激光沉积系统 Combinatorial PLD System
特点独立交钥匙PLD系统PLD-CCS 三元连续组分扩散无退火和掩模在“真正的”沉积条件下(比如800℃,500mTorr)薄膜成长Wafer尺寸:标准型直径2”(4” 和6”需客户定制)外延
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PLD 脉冲激光沉积系统检漏专用氦质谱检漏仪
脉冲激光沉积系统 PLD 需要检漏原因PLD 系统需要高真空环境, 腔室是否有泄露, 是否有内部材料放气等因素对实现高真空及超高真空很关键. 因此需要对整个系统进行泄漏检测. 氦质谱检漏仪利用
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脉冲电子束沉积系统 Pioneer 180 PED System
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高级脉冲激光沉积系统 Pioneer 120 Advanced PLD System
行多种选择。这些包括但不限于将PLD系统与各种其他沉积平台(如超高真空溅踱系统)集成,也与超高真空分析系统(如XPS/ARPES等)集成。产品特点独立的交钥匙PLD系统。 外延薄膜、多层异质结构和超
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大尺寸脉冲激光沉积系统 Large-Area PLD Systems
产品简介Neocera大尺寸PLD系统用于在各种衬底上沉积各种高质量的薄膜,晶圆(wafer)直径可达8 "(200毫米)。基片旋转结合激光扫描提供整个晶圆区域的厚度均匀性。激光束扫描附件采用
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