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半导体晶圆PL光谱测试系统
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牛津仪器镀膜机等离子体增强化学气相沉积系统 纳米材料生长和表征
, AlGaN,等) GaN、AlGaN等的预生产和研发工艺,比如HBLED和其它功率器件的刻蚀高品质,高速率SiO2沉积,应用于光子器件金属(Nb, W)刻蚀 zei新的单晶片刻蚀技术
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镀膜机PlasmaPro 100 PECVD牛津仪器 应用于电子/半导体
和光子技术用于激光器端面的III - V族刻蚀工艺,通过刻蚀孔、光子晶体和许多其他应用,材料范围广泛(InP, InSb, InGaAsP, GaAs, AlGaAs, GaN, AlGaN,等
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PlasmaPro 100 PECVD镀膜机牛津仪器 应用于高分子材料
技术和光子技术用于激光器端面的III - V族刻蚀工艺,通过刻蚀孔、光子晶体和许多其他应用,材料范围广泛(InP, InSb, InGaAsP, GaAs, AlGaAs, GaN, AlGaN,等
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等离子体增强化学气相沉积系统镀膜机PlasmaPro 100 PECVD 应用于电子/半导体
, AlGaAs, GaN, AlGaN,等) GaN、AlGaN等的预生产和研发工艺,比如HBLED和其它功率器件的刻蚀高品质,高速率SiO2沉积,应用于光子器件金属(Nb, W)刻蚀 zei新
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PlasmaPro 100 PECVD镀膜机牛津仪器 可检测Power
, AlGaN,等) GaN、AlGaN等的预生产和研发工艺,比如HBLED和其它功率器件的刻蚀高品质,高速率SiO2沉积,应用于光子器件金属(Nb, W)刻蚀 zei新的单晶片刻蚀技术
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镀膜机等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD 适用于Power Semiconductors
光子技术用于激光器端面的III - V族刻蚀工艺,通过刻蚀孔、光子晶体和许多其他应用,材料范围广泛(InP, InSb, InGaAsP, GaAs, AlGaAs, GaN, AlGaN,等
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 半导体制造
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镀膜机牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统 应用于高分子材料
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牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD 可检测Nano
, GaN, AlGaN,等) GaN、AlGaN等的预生产和研发工艺,比如HBLED和其它功率器件的刻蚀高品质,高速率SiO2沉积,应用于光子器件金属(Nb, W)刻蚀 zei新的单晶片刻蚀技术
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