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提供:日本工业技术综合研究所 上村 佳大 先生高衬度的低加速电压背散射图像3D NAND截面观察;在低加速电压条件下,背散射电子信号能够明显的显示出氧化硅层和氮化硅层的衬度差别。3D NAND截面观察
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