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光刻胶
光刻胶的主要技术参数1. 灵敏度(Sensitivity) 灵敏度是衡量光刻胶曝光速度的指标。光刻胶的灵敏度越高,所需的曝光剂量越小。单位:毫焦/平方厘米或mJ/cm2。2.分辨率
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YAMATO光刻胶固化炉
性 能 (依 JTM 规格 )使用温度范围 : 室温 +50~50 0℃温度调节精度: ±0. 5℃(at 45 0℃ 无负荷状态下)温度分布精度: ±5℃(at 45 0℃ 无负荷状态下
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牛津仪器Etch刻蚀工艺牛津仪器
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牛津仪器 牛津仪器Etch刻蚀工艺
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用硅
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牛津仪器Etch刻蚀工艺
苯并环丁烯刻蚀金刚石—金刚石的刻蚀刻蚀聚酰亚胺—聚酰亚胺的刻蚀聚二甲基硅氧烷(PDMS)刻蚀刻蚀PR—刻蚀光刻胶硅烷化光刻胶的干法显影(感应耦合等离子体-反应离子刻蚀)—硅烷化光刻胶硅博施刻蚀Si—博
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ICP-MSNexION 350珀金埃尔默 NexION 300S ICP-MS 对光刻胶中的Si的分析
珀金埃尔默系列ICP-MS-MS-MS三重四极杆串级电感耦合等离子体质谱仪NexION 350参考多项行业标准。完成光刻胶的检测。可以用在高分子材料行业领域中的Si项目。 使用ICP、ICP-MS
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用有机物
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用金属
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光刻胶低温冰箱0-10℃光刻胶冷柜光刻胶冰箱
光刻胶低温冰箱0-10℃光刻胶冷柜光刻胶冰箱厂家简介:光刻胶低温冰箱0-10℃光刻胶冷柜光刻胶冰箱厂家 北京福意(FU.YI.LIAN)电器有限公司实力雄厚、设备、重信用、守合同、保证 产量,以多
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