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自动曝光控制系统衰减测试模型
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多通道原位分析光谱仪RAMANRXN2TM 自动曝光,确保反应过程中的检测灵敏度
变化, 自动曝光,确保反应过程中的检测灵敏度,多通道反应监测,实现多个反应(zei多四个)的实时监测 可编程的通道采集监测,顺序操作用于快速采集。 多通道的RAMANRXN2TM拉曼光谱仪是分析、监测
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日本EHC 平行光曝光系统HTE-510-EHC
平行光曝光系统设计紧凑的平行光曝光系统。这种准直镜式平行光曝光系统使用一个超高压汞灯作为点光源。 主要部件由光源、吸式曝光台和面罩单元组成,曝光方式可以是真空接触(硬接触)曝光方式。 也可根据要求
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玻璃基板曝光设备-曝光机玻璃
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上海纳腾高精度电子束曝光系统
ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统,其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)
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日本电子JBX-3200MV电子束光刻系统 步进重复式曝光的优点
可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统。产品特点:利用步进重复式曝光的优点,结合曝光剂量调整功能及重叠
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多功能电子束曝光机
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紫外曝光机
这款紫外曝光机非常适合对紫外光敏感层的处理,是理想的紫外掩曝光机系统。应用:紫外曝光机适合光学,生物,微纳科技,光刻等领域需要1-2掩膜的应用。紫外掩曝光机特点1)完美的单色曝光,曝光带宽小于
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无掩模曝光机
美国IMP(Intelligent Micro Patterning, LLC)公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光专利技术,已成为无掩模紫外光刻领域的领导者
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EVGPIONEER Two多功能电子束曝光机
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