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CCS-UHV超高真空系统
Janis有多种用于UHV系统的设计,包含非烘烤系统和烘烤系统。 CCS-UHV超高真空系统 Janis有多种用于UHV系统的设计,包含非烘烤系统和烘烤系统。非烘烤UHV系统
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美国Janis超高真空探针台UHV
可烘烤至120℃室温或低温配置样品尺寸直径25-50mm集成2-8个x-y-z 探针台和探针温度范围从5-700K观察样品和探针的单像管、照相机和监视器Janis在UHV环境里为电学材料提供了一套
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紧凑磁控溅射镀膜机
);6/ 直流电源:2KW(800V - 2.5A);7/ 气体传输模块:MFC控制,氩气,100sccm; 磁控溅射镀膜机 - 紧凑,适合科研,极高性价比! 型号:AP-MMS1 产地:韩国
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钙钛矿镀膜机
技术参数1、镀膜室:不锈钢材料,采用方形前后开门结构,内带有防污板,腔室尺寸约为600mm×450mm×450mm2、真空排气系统:采用分子泵+机械泵系统3、真空度:镀膜室极限真空≤6
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磁控溅射卷绕镀膜机
技术参数卷膜条件镀膜材料:PET 和无纺布适用制膜:软磁合金膜、金属膜、导电膜、合金膜、介质膜等。基材厚度:125~300μm有效镀膜宽幅:≤800 mm最大卷绕直径:Φ400 mm卷绕芯轴
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超高真空(UHV)液氦/液氮型低温探针台
Side profile of a UHV Cryogenic Probe StationHigh Conductance 8” Vacuum Pump Out Port 美国ARS公司的
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SUPERALD Exploiter原子层沉积超高真空系列 UHV ALD
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TQC-Sheen 自动镀膜机
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Ossila浸渍提拉镀膜机
v 最小提取速度:0.01mm.s-1。v 提取速度:50 mm s-1。v 速度再重现性:±0.01%@1mms-1,±0.1% @10mm.s-1,± 0.3% @ 50mm.s-1。v
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伯东公司真空镀膜机
可搭配多种泵组(涡轮分子泵、低温泵或油扩散泵)pfeiffer 镀膜机真空腔体可冷却可加热,极限真空度最高可达 < 5 · 10-7 mbar,腔体漏率 < 1 · 10-5 mbar l/s
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