曝光光刻机、纳米压印设备、电子束蒸发镀膜机、反应离子束刻蚀系统等先进的微加工设备,以及扫描电子显微镜、显微共聚焦光谱测试系统、低温强磁场光学近场显微系统、飞秒激光器、半导体参数测试系统等光学测试设备,可以完成微纳器件的光电性能的综合测试
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光电子器件产品开发。 2. 分子束外延薄膜生长及表征系统(MBE/SPM)系统,将主要用于开展ZnO基半导体特性研究,推动ZnO基半导体在光电器件中的应用。 3. 双生长室超高真空化学气相沉积(UHV-CVD)系统,将主要探索Si
福建省
SiGe超高真空外延系统(UHV-CVD)及材料外延技术 快速热退火及激光退火设备 主 任:潘立阳 电 话:010-62789192 传 真
UHV-SPM 德国Omicron公司 场发射扫描电子显微
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,穆斯堡尔谱仪,正电子湮没设备等五台仪器设备。1980-1996年期间,基本上靠自筹购买和自建了高功率X射线衍射仪、离子束增强镀膜机及真空退火炉等。1997年国家开始“211”工程及1998年开始“985”工程后,学校投入大幅度增加,同时将材
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材料与器件课题组、UHV-SPM与物性课题组。公用测试平台拥有实验设备30余套,总价值逾3000万元。 1993年以来,中心承担了科技部、基金委、教育部等项目共计61项,还承担了世界银行贷款、211工程、985工程等基地建设项目
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总价值4000余万元。实验室现有大型仪器设备包括:电子束蒸发真空镀膜机,多功能磁控溅射仪,激光分子束外延机,精密丝网印刷机,表面形貌分析仪,高温烧结炉,时空分辨真空紫外光谱测量系统,超快非线性激光光谱学测量系统,飞秒光学参量放大系统,数字存储
陕西省
(EPMA-1600)、太阳能电池测试仪、真空镀膜机(DM-450C)、四元共蒸发镀膜设备、磁控溅射、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)、离子刻蚀机、直拉单晶炉、双辉光等离子体渗金属炉等先进大型仪器设备,同时还拥有显微硬度计、自动椭圆偏振
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系统、JS- 3X100B磁控溅射台、PECVD-2E等离子淀积台、ZZSX500C电子束蒸发台、JC500-3/D磁控溅射镀膜机、石英管清洗机,以及多种常用测试仪器, 如OLS1100激光共聚焦显微镜、DEKTAK-III台阶测量仪
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因子396项,涉及58个环境质量标准和污染物排放标准。包括环境质量标准和污染物排放标准,水和废水检测参数,空气和废气检测参数,沉积物、污泥、土壤、固体废弃物检测参数,生物检测参数,噪声检测参数、大气污染源检测参数及室内空气检测参数八大
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