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PL光致发光光谱测量系统
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A-Z系列薄膜列表
(进口料)Al2O3+ZnO薄膜Si+SiO2+TiO2+Pt (进口料)Al2O3+Si薄膜(SOS)Si+SiO2+Ti+Pt (国产)AL2O3+GaN薄膜(P型;N型掺Si;N型不掺杂
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7-PLSpec 系列光致发光光谱测试系统
本系统可以测试半导体材料或其他发光特性材料在激光激发下产生的荧光光谱。通常情况下采用紫外或近紫外激光激发半导体材料(如GaN、Zno、CdTe 等)产生荧光;或用可见、红外激光器激发稀土参杂的
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Angstrom Dep III等离子体增强原子层沉积系统(PEALD
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Hall霍尔效应测试仪VDP 6800
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原子层沉积系统PICOSUN™P300S
时间小于10秒/循环*Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2,AlN,TiN以及各种金属同一批次薄膜不均匀性
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芬兰原子层沉积技术PICOSUN™ALD-P300BV
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芬兰原子层沉积设备PICOSUN™ALD- P300系列
(batch)0.77 %TiO20.28 %HfO20.47 %ZnO0.94 %Ta2O51.0 %TiN1.10 %CeO21.52 %Pt3.41 % 名称:原子层沉积系统 品牌
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磁控溅射系统NSC-4000 (M
基板支持加热(最高可达800°C)或冷却支持旋转GLAD斜角入射沉积腔体尺寸可定制1.5-5KW脉冲之流电源用于ITO/ZnO等类似材料 NANO-MASTER的溅射系统可构建成多腔体和多
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Hall8800霍尔效应测试仪器
, SiC,GaAs, InGaAs, InP, GaN, ITO (N Type & P Type)测试材质:半导体类材质、如: Si, SiGe, SiC, ZnO, GaAs, InGaAs
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