-
聚焦离子束系统
操作系统上的SmartSEM操作界面。由鼠标,键盘,操作杆控制或控制板(可选) 这是一台zei新设计的聚焦离子束系统,具备高分辨率成像功能。它由电子束系统(SEM)和离子束系统(FIB)组成,可以
-
离子束刻蚀/沉积系统
电子回旋共振技术(ECR)的小型离子束蚀刻系统,特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄,清洗、沉积等。 EIS-200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术(ECR
-
低能量小型一体化OPO激光器
低能量小型一体化OPO激光器主要优点:? 泵浦源和OPO 模组一体化密封设计,可靠性高,激光头尺寸:305*178*125mm,非常紧凑;? 信号光和闲置光同一出口输出,波长切换不需要加额外
-
Fischione 离子减薄仪 1051
量(精细修复)。 技术优势:两支独立可调电磁聚焦离子枪同时具备高能量(快速抛光)和低能量(精细修复)超宽加速电压范围:100eV 到10kV,不同加速电压下,离子束束斑均保持理想束斑状态每支
-
日本电子EM-09100IS 离子切片仪
样品比传统制备工具快速、简单。低能量、低角度(0°到6°)的氩离子束通过遮光带照射样品,大大降低了离子束对样品的辐照损坏。即使是柔软的材料,制备的薄膜质量也极好,对不同成份的样品甚至含有多孔合成物也
-
AT1103M 高灵敏便携式低能X、γ巡测仪
、55Fe、241Am、239Pu、129I等放射性核素的剂量控制。 产品概述 测量低能X射线 产品特点1、 可测量能量在5KeV以上X射线2、 环境本底改变的快速响应3、 超阈值声光报警4
-
伯东公司考夫曼离子源
、连续的电源。电子源与离子源离子枪中和器这些电子源低能量、高电流源。它们一般应用于中和剂或阴极材料,以便控制离子源与等离子源的产量。PTIBEAMTM 离子透镜我们的离子束源采用耐融金属或石墨的多孔
-
低能量小型一体化OPO激光器—Opolette (HR) 系列
主要优点? 泵浦源和OPO 模组一体化密封设计,可靠性高,激光头尺寸:305*178*93mm,非常紧凑? 信号光和闲置光同一出口输出,波长切换不需要加额外调节光路? 1064nm、532nm
-
NIE-4000 (M) IBE离子束刻蚀
源用于钝化层沉积 NANO-MASTER的离子束刻蚀系统具有很强的适应性,可根据不同的应用而按不同的配置进行建构。多样的样片夹具和离子源配置可支持用户不同的应用。 NIE-4000(M)IBE
-
NIE-3000 (C) 离子束清洗系统
离子束:高达2KV/10mA离子电流密度100-360uA/cm2离子束直径:4“,5“,6“兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)极限真空5x10-7Torr260l/s涡轮
想在此推广您的产品吗?
咨询热线: 010-84839035
联系邮箱: sales@antpedia.net