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多入射角激光椭偏仪
技术指标:激光波长 632.8nm (He-Ne laser)膜厚测量重复性0.01nm (对于Si基底上110nm的SiO2膜层)折射率精度1x10-4 (对于Si基底上110nm的SiO2膜
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ZEISS ΣIGMA热场发射扫描电镜
电子光学系统:ΣIGMA 系列热场发射扫描电镜镜筒系统电子光学设计新颖独特,称为GEMINI镜筒。在光源与样品之间,入射电子束不形成交叉点,这与其它扫描电镜明显不同。入射电子束无交叉点光学设计的作用
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EMPro 多入射角激光椭偏仪
EMPro是针对高端研发和质量控制领域推出的极致型多入射角激光椭偏仪。EMPro可在单入射角度或多入射角度下进行高精度、高准确性测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和
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极致型多入射角激光椭偏仪
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精致型多入射角激光椭偏仪
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450型电子束蒸发镀膜系统
:质量流量控制器1路 石英晶振膜厚控制仪:监测膜厚显示范围:0-99μ9999? 450型电子束蒸发镀膜系统用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等,广泛应用于大专院校、科研机构的科研及
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高精度电子束曝光系统
ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统,其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125) ELS-F125是Elionix推出
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GSL-ZDDZS-500电子束蒸镀
的优点,还具有蒸镀速率快,电子束定位准确能量密度高,可以避免坩埚材料的污染等特点。 产品简介:用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料
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港东WGD-SMA入射/出射SMA905模块
- 产品参数 SMA905光纤模块可用于替换我公司生产的大部分仪器的狭缝,将仪器改造为SMA905接口输入/输出的单色仪/光谱仪,具体可分为输入和输出模块两大类,均内嵌有固定狭缝,有25μm
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快速摄谱式 固定入射角光谱椭偏仪
ES05是针对科研和工业环境中薄膜测量推出的固定入射角光谱椭偏仪,仪器波长范围370-1000nm。ES05固定入射角光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数(如,厚度)和物理参数(如
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