ppm; %LEL环氧丙烷,氧化丙烯Propylene Oxide100 ppm,; % LEL硅烷Silane10, 20, 50 ppm四氯化硅Silicon Tetrachloride1000
有二氯二氢硅、四氯化硅和硅烷等。主要用于外延硅淀积,多晶硅淀积,氧化硅膜淀积,氮化硅膜淀积,太阳能电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积等。外延生长是一种单晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。 2. 化学
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