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刻蚀光栅
刻蚀光栅一、标准的刻蚀光栅规格:刻线/mm闪耀波长nm闪耀角度色散nm/mr12.7x12.7x 625x25x 625x25x 9.530x30x 9.550x50x 9.512.5x25x
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等离子刻蚀ICP
Minilock-Phantom III具有预真空室的反应离子刻蚀机可适用于单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸
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伯东NS离子刻蚀机
上海伯东 NS 进口离子蚀刻机 20-M/NS-12,适合大规模量产使用的离子刻蚀机 离子蚀刻机 20-M/NS-12上海伯东 NS 进口离子蚀刻机 20-M/NS-12,适合大规模量产使用的离子
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离子束刻蚀/沉积系统
电子回旋共振技术(ECR)的小型离子束蚀刻系统,特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄,清洗、沉积等。 EIS-200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术(ECR
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光刻胶
表面。当紫外光或电子束的照射时,光刻胶材料本身的特性会发生改变,经过显影液显影后,曝光的负性光刻胶或未曝光的正性光刻胶将会留在衬底表面,这样就将设计的微纳结构转移到了光刻胶上,而后续的刻蚀、沉积等工艺
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NPC- 3000 等离子刻蚀机
有机物以及无机物的残留物去除光刻胶剥离或灰化去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜线框架提高黏附性,消除键合问题塑料的表面改型:O2处理以改进涂覆性能产生亲水或疏水表面
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GAIA3 model 2016超高分辨双束扫描电镜系统 (FIB-SEM
光学系统设计 ·马达控制的精准样品台,可进行精确的移动或倾转操作 ·Field-free模式下可对磁性样品进行有效观察 ·高达400nA的束流强度 ·停留时间低至20ns的快速电子束刻蚀速度 ·FIB
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农药残留速测仪品牌
* 波长配置:410nm;* 抑制率显示范围:0%~100%;* 抑制率测量范围:0%~100%;* 透射比准确度:±1.5%;* 透射比重复性:≤0.5%;* 漂移:≤0.005Abs
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450型电子束蒸发镀膜系统
:质量流量控制器1路 石英晶振膜厚控制仪:监测膜厚显示范围:0-99μ9999? 450型电子束蒸发镀膜系统用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等,广泛应用于大专院校、科研机构的科研及
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GSL-ZDDZS-500电子束蒸镀
的优点,还具有蒸镀速率快,电子束定位准确能量密度高,可以避免坩埚材料的污染等特点。 产品简介:用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料
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