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硅片表面形貌测量 AFM
价格电议英国 NanoMagnetics 原子力显微镜硅片表面形貌测量 上海伯东代理的英国 NanoMagnetics 原子力显微镜硅片表面形貌测量应用, 某高校老师通过原子力显微镜进行硅片
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硅片表面形貌测量VIT系列
硅片表面形貌测量VIT系列NEW: Virtual Interface Technology for 3D-IC Metrology:-TSV profile (depth, bottom CD
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硅片玻璃接触角测量仪
测量采用晟鼎精密自主研发软件支持的体积循环模式(见下图)来驱动接触角测量仪器选配的自动加液装置。在这一模式中可以设置三个不同的体积节点(V1,V2 和 V3)以及达到每个体积节点的相应速度(R1
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硅片厚度测量仪SIT-200
产品参数:测量目标硅片测量厚度10-500μm光源1515-1585nm扫描功率0.6mw,Class1指示光源红光,Class1M
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薄膜应力和硅片翘曲检测仪
基于Optilever激光扫描技术。 使用应力控制,避免薄膜分层,形成凹凸状。 光学设计减少图形衬底对激光的干涉。 在TSV, 半导体以及LED工艺上控制基底弯度。 在平板显示行业,控制玻璃的平整度
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原子力显微镜|英国 NanoMagnetics|硅片表面形貌测量
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金刚刀划片机 - 适用于陶瓷、玻璃、硅片等
可旋转、带真空吸附样品台,最大样品直径200mm;X-Y工作台上每间隔90度备有定位V字槽;通过线性轴承的测微螺杆,精确细调角度;最小分辨率:0.006度,范围:4度;划片宽度:240mm,划线
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全自动硅片清洗机 太阳能超声波清洗设备
全自动硅片清洗机主要特点: 1. 工艺流程:进料→超声水洗(氮气鼓泡+抛动)→超声水洗(氮气鼓泡+抛动)→超声碱洗(抛动)→超声碱洗(抛动)→超声水洗(抛动)→超声水洗(抛动)→超声水洗(抛动
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HASUC 真空干燥箱充HMDS气体
在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的
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HMDS基片预处理系统真空干燥箱HMDS-6090
在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的
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