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纳优科技 NDA 200 X荧光光谱仪
NDA 200 X荧光光谱仪分析方法配置:►基于蒙特卡洛计算模型的基本参数法► 经验系数法► 理论α系数法软件功能描述:► RoHS指令、无卤指令等环保指令所限制的Pb、Hg、Cd、TCr
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纳优科技 NDA 500型X荧光光谱仪
NDA 500型X荧光光谱仪主要配置►SDD硅漂移电制冷半导体探测器►侧窗钼(Mo)靶管►标配16组复合滤光片►配置了Φ0.5mm、Φ1mm、Φ3mm、Φ4mm四种准直器►具有自动Mapping
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纳优科技 NaU1000 X荧光光谱仪
法”多层镀层测厚功能:纳优科技*的“影响权系数法”多层镀层测厚技术,显著提高镀层厚度测量的准确度;大可测量镀层数量为9层;*解决了常规XRF测厚方法所不能解决的塑料基体镀层厚度测量的技术难题►外观设计
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纳优科技 NDA 300型 X荧光光谱仪
防护结构,在保持仪器外形美观操作方便的同时,*杜绝低能散射X射线的泄露 ►配置技术“影响权系数法”多层镀层测厚功能:纳优科技*的“影响权系数法”多层镀层测厚技术,显著提高镀层厚度测量的准确度;大可
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平行平晶
1750平行平晶是以光波干涉原理为基础,利用平行平晶的测量面与试件的被测量面之间所出现的干涉条纹来测量被测量面的误差程度。*平行平晶是以光波干涉原理为基础,利用平行平晶的测量面
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平面平晶
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纳优科技 NaU-E500型 X荧光光谱仪
NaU-E500型X荧光光谱仪主要应用特点:全自动一键式操作平台一载物平台、样品室、准直器、滤光片、照射光斑定位等实现全自动;提供幵放式工作曲线标定技术平台,可为用尸量身定做的有害物质检测和控制
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纳优科技 NaU-E650型 X荧光光谱仪
NaU-E650型 X荧光光谱仪主要应用特点:采用纳优专业技术的全新光路设计,显著抻高分析精度和数据可靠性,减小灰色地带区间,节省外送检测成本;行业内全配置的12组滤光片(行业内一般配置≤8组
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美国OAI晶元绑定机晶圆接合器 AML
型号: AML晶片接合在MST,MEMS和微工程领域中已经发现了许多应用。 美国OAI晶元绑定机晶圆接合器 AML 晶片接合在MST,MEMS和微工程领域中已经发现了许多应用。 这些
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纳优科技 NaU-E910 手提式能谱光谱仪
NaU-E910国家专用类EDXRF 政府特殊功能定制专供型主要应用特点:●手提式能谱光谱仪,纳优科技与政府合作项目成果,该型号产品专供政府相关部门使用。●相关技术参数和标准受国家管
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