KT-S2DQX型等离子清洗机电源属于150W 13.56MHz的射频电源
DMD无掩模光刻机 DMD无掩模光刻机 SmartPrint UV SystemDMD无掩模光刻机SMART PRINT UV是一种基于DMD投影技术的无掩模光
制造 生物医学原件• 光刻胶 • 聚合物/聚对二甲苯• 氧化物/氮化物
SWC-4000兆声辅助光刻胶剥离系统:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗,以及兆声辅助下光刻胶剥离。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。
SWC-3000兆声辅助光刻胶剥离系统:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗,以及兆声辅助的光刻胶剥离。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。
纳米划痕测试仪可用于分析有机的和无机的以及软的和硬的薄膜
丁烯刻蚀金刚石—金刚石的刻蚀刻蚀聚酰亚胺—聚酰亚胺的刻蚀聚二甲基硅氧烷(PDMS)刻蚀刻蚀PR—刻蚀光刻胶硅烷化光刻胶的干法显影(感应耦合等离子体-反应离子刻蚀)—硅烷化光刻胶硅博施刻蚀Si—博施刻蚀硅
显微分光光度计
(PDMS)刻蚀刻蚀PR—刻蚀光刻胶硅烷化光刻胶的干法显影(感应耦合等离子体-反应离子刻蚀)—硅烷化光刻胶硅博施刻蚀Si—博施刻蚀硅低温刻蚀Si—低温刻蚀硅混合刻蚀Si—八氟环丁烷-六氟化硫刻蚀硅HBr
第四届中国化学会终身成就奖发布,授予这两位资深化学家
海尔生物宣布收购上海元析,强势切入科学分析仪器赛道
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年规模5万亿元市场 我国各省市大规模设备更新大动作
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