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HASUC 带基片预处理系统真空烤箱HMDS
在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这
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薄膜纳米厚度测量仪 F54
的。非金属的薄膜都可以测量。可测样品包括:氧化硅氮化硅类金刚石DLC光刻胶聚合物聚亚酰胺多晶硅非晶硅硅 薄膜纳米厚度测量仪相关应用半导体制造• 光刻胶• 氧化物/氮化物/SOI• 晶圆研磨减薄/封装
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爱义信 HMDS烘箱 HMDS真空烘箱 HMDS预处理烘箱
HMDS涂到样品表面后,经烘箱加温可生成硅氧烷为主的化合物,将样品表面由亲水性变为疏水性,此疏水性能够很好的与光刻胶结合,增加了样品表面与光刻胶的黏附作用
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NIE-4000(R)RIBE反应离子束刻蚀
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NIE-4000(M)IBE离子束刻蚀
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NIE-4000 (A) 全自动IBE离子束刻蚀
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ACQUITY UPC²液相色谱仪Waters ACQUITY UPC2 超高效合相色谱 利用ACQUITY UPC2 应对半导体行业先进光刻材料 (光刻胶)开发与供应所面临的挑战
沃特世Waters ACQUITY UPC2 超高效合相色谱ACQUITY UPC²可用于测定光刻材料,适用于开发,供应项目。并且参考多项行业标准。可应用于电子/半导体行业领域。 背景
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JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统
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国产超高分辨场发射扫描电子显微镜 SEM5000X
SEM5000X是一款超高分辨率场发射扫描电子显微镜,其分辨率达到了突破性的0.6 nm@15 kV和1.0 nm@1 kV。
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赛默飞制备液相/层析纯化制备液相色谱 可检测1#聚丙烯酸
分布项目。 客户从事光刻胶生产,想要了解U3000做水相活性剂GPC分子量分布(样品分子量不高,3000左右)。由 仪器简介:该系统提供最合适的解决方案,适用于严苛的分析型和半制备型LC应用
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