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日本电子JBX-3050MV 电子束光刻系统 步进重复式的光刻系统
产品规格:拼接精度≦±3.8 nm套刻精度≦±7 nmJBX-3050MV 电子束光刻系统JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的
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ACQUITY UPC²液相色谱仪Waters ACQUITY UPC2 超高效合相色谱 利用ACQUITY UPC2 应对半导体行业先进光刻材料 (光刻胶)开发与供应所面临的挑战
沃特世Waters ACQUITY UPC2 超高效合相色谱ACQUITY UPC²可用于测定光刻材料,适用于开发,供应项目。并且参考多项行业标准。可应用于电子/半导体行业领域。 背景
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帕克 SmartLitho™纳米光刻和纳米操作的智能化软件 对电气进行纳米光刻和纳米操作
SmartScan 可以自动进行成像所需的所有操作,并智能地确定最佳的图像质量和扫描速度。 Park的专有技术实现了SmartScan的自动化测量。可以帮助用户在最短时间内获得最佳的实验成果。
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帕克 SmartLitho™纳米光刻和纳米操作的智能化软件 对电子设备进行纳米光刻和纳米操作
SmartScan 可以自动进行成像所需的所有操作,并智能地确定最佳的图像质量和扫描速度。 Park的专有技术实现了SmartScan的自动化测量。可以帮助用户在最短时间内获得最佳的实验成果。
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JBX-3200MV电子束光刻系统
JBX-3200MV 电子束光刻系统JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速
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JBX-9500FS电子束光刻系统
JBX-9500FS 电子束光刻系统JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印
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JBX-3050MV 电子束光刻系统
JBX-3050MV 电子束光刻系统JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速
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JBX-6300FS 电子束光刻系统
JBX-6300FS 电子束光刻系统JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为(计算值)2.1nm的电子束,简便地描画出线宽在8nm以下(实际可达5nm)的图形
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沃特世液相色谱仪Waters ACQUITY UPC2 超高效合相色谱 可检测光刻材料
沃特世Waters ACQUITY UPC2 超高效合相色谱ACQUITY UPC²可以用在纺织/印染行业领域,用来检测光刻材料,可完成开发,供应项目。符合多项行业标准。 背景 UPC2: 拓宽
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JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统
JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统zei新高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统,通过全方位的设计优化,实现更简便的操作,更快的刻写速度,更小的占地面积和安装空间,并且更加绿色节能。产品
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