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光刻机
- 掩模尺寸:最大7英寸;- 样品尺寸:最大6英寸;- 卡盘移动:X,Y,Z,Theta轴手动,楔形补偿调平;- 紫外光源:6.25" X 6.25";- 光源功率:350瓦紫外灯;- 光源均匀
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光刻胶
光刻胶的主要技术参数1. 灵敏度(Sensitivity) 灵敏度是衡量光刻胶曝光速度的指标。光刻胶的灵敏度越高,所需的曝光剂量越小。单位:毫焦/平方厘米或mJ/cm2。2.分辨率
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USHIO自动光刻设备
*具有较高的生产对应能力和处理速度 每小时可达200WPH以上本产品具有较高的设备稳定性。 UPE-1255ATL是被广泛应用于LED芯片研发和大批量生产的一款自动光刻设备特点:*具有较高的设备
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Ushio 手动光刻机
*产能高于一般同行业竞争对手,最高可达80WPH;Ushio手动光刻设备UPE-1102LU主要应用于LED芯片(蓝白光,红黄光)研发和生产当中,并且对全自动生产线所产生的LED芯片破片有辅助生产和
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扫描探针光刻系统(SPL)
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YAMATO光刻胶固化炉
性 能 (依 JTM 规格 )使用温度范围 : 室温 +50~50 0℃温度调节精度: ±0. 5℃(at 45 0℃ 无负荷状态下)温度分布精度: ±5℃(at 45 0℃ 无负荷状态下
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DMD无掩膜光刻机
产品简介 DMD无掩膜光刻机高速、广范围、低价格DMD式无掩膜光刻机! AU-PALET光刻机是一款紧凑的DMD式无掩膜光刻机拥有高速、广范围、低价格、高分辨率、操作简单和可靠性高等特点
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美国OAI光刻机 5000E
型号: 5000E OAI 5000E型大面积掩光刻机是一种先进的高性能,全自动掩模对准器和曝光工具,可为大型平板应用提供超精密,顶级,亚微米对准和分辨率。 美国OAI
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小型台式无掩膜光刻机
)是是是 自动晶片检查工具无(可升级)有有 温控样品腔室无 (可升级)无 (可升级)有 虚拟模板校准工具无(可升级)无(可升级)有 气动减震光学平台无(可升级)无(可升级)有 小型台式无掩膜光刻系统
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EVG620系列单面/双面光刻机
EVG620系列单面/双面光刻机 一、 简介 EVG公司成立于1980年,公司总部和制造厂位于奥地利,在美国、日本和台湾设有分公司,并在其他各地设有销售代理及售后服务部,产品和服务遍及
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