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牛津仪器Etch刻蚀工艺
苯并环丁烯刻蚀金刚石—金刚石的刻蚀刻蚀聚酰亚胺—聚酰亚胺的刻蚀聚二甲基硅氧烷(PDMS)刻蚀刻蚀PR—刻蚀光刻胶硅烷化光刻胶的干法显影(感应耦合等离子体-反应离子刻蚀)—硅烷化光刻胶硅博施刻蚀Si—博
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ÄKTAexplorer 100快速工艺开发系统
适合从小试摸索到中试(三期临床完毕)生产,适用各种层析技术,专门分离和纯化各类生物分子,包括天然蛋白质,重组和融合蛋白质、肽、寡核酸、质粒、病毒、抗生素、生物碱等等。
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JBX-3050MV 电子束光刻系统
JBX-3050MV 电子束光刻系统JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速
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JBX-6300FS 电子束光刻系统
JBX-6300FS 电子束光刻系统JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为(计算值)2.1nm的电子束,简便地描画出线宽在8nm以下(实际可达5nm)的图形
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JBX-9500FS电子束光刻系统
JBX-9500FS 电子束光刻系统JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印
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JBX-3200MV电子束光刻系统
JBX-3200MV 电子束光刻系统JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速
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JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统
JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统zei新高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统,通过全方位的设计优化,实现更简便的操作,更快的刻写速度,更小的占地面积和安装空间,并且更加绿色节能。产品
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DMD无掩模光刻机
DMD无掩模光刻机 DMD无掩模光刻机 SmartPrint UV SystemDMD无掩模光刻机SMART PRINT UV是一种基于DMD投影技术的无掩模光
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DMD无掩膜光刻机
DMD无掩膜光刻机高速、广范围、低价格DMD式无掩膜光刻机!AU-PALET光刻机是一款紧凑的DMD式无掩膜光刻机拥有高速、广范
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帕克 SmartLitho™纳米光刻和纳米操作的智能化软件
SmartScan 可以自动进行成像所需的所有操作,并智能地确定最佳的图像质量和扫描速度。 Park的专有技术实现了SmartScan的自动化测量。可以帮助用户在最短时间内获得最佳的实验成果。
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