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光刻机
- 掩模尺寸:最大7英寸;- 样品尺寸:最大6英寸;- 卡盘移动:X,Y,Z,Theta轴手动,楔形补偿调平;- 紫外光源:6.25" X 6.25";- 光源功率:350瓦紫外灯;- 光源均匀
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光刻胶
指标。影响该指标的因素通常有如下3个方面: (1)曝光系统的分辨率。 (2)光刻胶的对比度、胶厚、相对分子质量等。一般薄胶容易得到高分辨率图形。 (3)前烘、曝光、显影、后烘等工艺都会
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USHIO自动光刻设备
*具有较高的生产对应能力和处理速度 每小时可达200WPH以上本产品具有较高的设备稳定性。 UPE-1255ATL是被广泛应用于LED芯片研发和大批量生产的一款自动光刻设备特点:*具有较高的设备
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Spectra/Por 工艺透析
可放大的动态透析1L和1L实验室透析槽,用于50-150mL样品5-10L工艺透析槽,用于0.1-2L样品2或3个工艺槽串联,用于0.2-6L样品Repligen的Spectrum Spectra
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OPUS® ValiChrom,用于工艺验证
1mm柱高。OPUS® ValiChrom 预装柱是参数评估和优化以及工艺验证的理想选择。可预装用户所选的层析填料以正确的填料压缩系数流动装填,以模拟工艺层析柱性能经证实的预装柱间可重复性带夹套玻璃柱
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奥星生物工艺模块
为制药企业提供疫苗、单抗和重组蛋白等生物制品的配液系统,包括培养基配制、发酵、收获、缓冲液配制、制剂的配液等。系统采用3D模块化设计,外型紧凑、美观、大方。系统所需的罐、泵、换热器、过滤器、阀门、管道
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Ushio 手动光刻机
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扫描探针光刻系统(SPL)
电子束聚光10 nm 以下光刻精度接近原子级分辨的套刻精度线写速度高达 300 μm/s大气环境下可实现正负光刻正光刻流程无需显影步骤大范围分步重复工艺Mix & Match 混合光刻模式闭环系统
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生化工艺全自动系统
设计参数支架方形铝材反应器夹套式1L圆柱形釜体,DN100玻璃法兰,手动PTFE底阀,釜盖中央NS29用于搅拌,两个斜口NS29,一个直口NS29, DN100 O型圈FEP材质、法兰连接件
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生物工艺溶剂回收系统
9700 生物工艺溶剂回收系统 自动回收: l XYLENE 二甲苯,二甲苯取代物 l ALCOHOL 酒精 l FORMALIN 福尔马林 l ACETONE 丙酮 型号PC-
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