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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统
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微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD
微波等离子化学气相沉积技术(MPCVD), 通过等离子增加前驱体的反应速率,降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积
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牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力,该工艺模块可提供具有高度均匀,高产量和高精度的工艺。
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GSL-PECVD-300化学气相沉积
产品简介:GSL-PECVD-300化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术,基本温度低,沉积速率快,在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜质量好
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VSParticle 纳米印刷沉积系统
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沉积静电效应测试
飞机整机沉积静电效应试验验证、机载设备(如通信设备等)抗沉积静电试验验证、飞机静电泄放器(静电放电刷)放电性能试验验证、其它有要求的地面装备(如带通信天线的快速移动车辆等)抗沉积静电试验验证。服务
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纳米尺寸 化学沉积系统
仪器简介:应用: 纳米尺寸微粒超薄薄膜沉积(TiO2, SiC, TiN, Pt, Ag, Al, Cu, etc.)技术参数:-微粒种类 : 玻璃珠, Al2O3, Si, SiO2
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 多种工艺气体
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离子束刻蚀/沉积系统
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