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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统沉积系统
OpAL系统是一种直立式热原子层沉积(ALD)设备,配备等离子体选项。它能够简单地实现从热ALD升级到等离子体ALD,在一个紧凑的结构上实现等离子体和热ALD。紧凑型直立式热原子层沉积(ALD)设备
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统
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沉积系统牛津仪器
OpAL系统是一种直接开放式热原子层沉积(ALD)设备,其中包含等离子体选项。它可以轻松升级为等离子体ALD,实现在一个紧凑的设备中结合等离子体和热ALD。这款紧凑型直开式热原子层沉积(ALD)设备
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 多种工艺气体
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牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD 可检测Nano
牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD可以用在纳米材料行业领域,用来检测Nano Material,可完成Nano Material项目。符合多项行业标准
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等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD牛津仪器 可检测Material
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 适用光子学
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 半导体制造
牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD适用于Power Semiconductors项目,参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Power
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 适用微流体技术
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镀膜机PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 可检测Power
Oxford Instruments。 半导体制造解决方案 System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换
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