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光刻机
- 掩模尺寸:最大7英寸;- 样品尺寸:最大6英寸;- 卡盘移动:X,Y,Z,Theta轴手动,楔形补偿调平;- 紫外光源:6.25" X 6.25";- 光源功率:350瓦紫外灯;- 光源均匀
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Ushio 手动光刻机
*产能高于一般同行业竞争对手,最高可达80WPH;Ushio手动光刻设备UPE-1102LU主要应用于LED芯片(蓝白光,红黄光)研发和生产当中,并且对全自动生产线所产生的LED芯片破片有辅助生产和
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DMD无掩膜光刻机
产品简介 DMD无掩膜光刻机高速、广范围、低价格DMD式无掩膜光刻机! AU-PALET光刻机是一款紧凑的DMD式无掩膜光刻机拥有高速、广范围、低价格、高分辨率、操作简单和可靠性高等特点
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美国OAI光刻机 5000E
型号: 5000E OAI 5000E型大面积掩光刻机是一种先进的高性能,全自动掩模对准器和曝光工具,可为大型平板应用提供超精密,顶级,亚微米对准和分辨率。 美国OAI
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小型台式无掩膜光刻机
Microwriter ML3基本型增强型旗舰型 最大样品尺寸155×155×7mm155×155×7mm230×230×15mm 最大直写面积149mm x 149mm149mm x
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EVG620系列单面/双面光刻机
EVG620系列单面/双面光刻机 一、 简介 EVG公司成立于1980年,公司总部和制造厂位于奥地利,在美国、日本和台湾设有分公司,并在其他各地设有销售代理及售后服务部,产品和服务遍及
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光学正面和背面光刻机OAI 800型
型号: OAI 800 OAI模型800光刻机是半自动,four-camera、光学正面和背面光刻机。 800型光学正面和背面光刻机系统 OAI模型800光刻机是
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WOP的3D激光光刻机nSCULPTOR
秒激光系统和光学组件,激光微加工车间,激光微加工自动化软件,定制激光系统和设备控制电路。3D激光光刻机 nSCULPTORnSCULPTOR是用于纳米结构加工的3D激光光刻系统,基于多光子聚合(mPP
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美国恩科优N&Q系列光刻机4008
恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中,N&Q4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统优越的操作性,超高的分辨率,均匀的光学系统,现代先进的接近式和接触式光刻及超高的性价比,使恩科优
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美国恩科优N&Q系列光刻机8006
二、技术参数:1、芯片尺寸:5mm~150mm的圆片/方片和不规则碎片(支持对不规则碎片的特殊卡盘设计);2、曝光波长:350nm-450nm(其它波长可选配);3、汞灯功率:350W
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