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研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570
研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570,是搭载了爱发科独创的磁性中性线(NLD- neutral loop discharge)等离子源的装置,此NLD技术可实现产生低压、低电子温度、高密度的
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牛津Oxford等离子体刻蚀机PlasmaPro 80 RIE
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英国Oxford 等离子沉积机PlasmaPro 80 ICPCVD
应用:· III-V族刻蚀工艺· 硅 Bosch和超低温刻蚀工艺· 类金刚石· 类金刚石(DLC)沉积· 二氧化硅和石英刻蚀· 用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖逆
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牛津Oxford原子层刻蚀机PlasmaPro 100 ALE
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牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备
二氧化硅和石英刻蚀用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖工艺,可处理封装好的芯片、 裸晶片以及200mm晶圆沉积高质量的PECVD氮化硅和二氧化硅薄膜,用于光子学、电介质层
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